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博士后領(lǐng)銜,歐博士18年專注水處理

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飛創(chuàng)科技有限公司

CWES-UET電解水處理

價(jià)格:

分類:CWES電解水處理器

型號(hào):

尺寸:

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7年環(huán)保設(shè)備和機(jī)械加工生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),應(yīng)用于各大電廠、鋼廠、農(nóng)業(yè)、市政、工業(yè)
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CWES-UET電解水處理

科技部立項(xiàng)支持的節(jié)水減排技術(shù),   相關(guān)技術(shù)受國家授權(quán)專利保護(hù)

專利號(hào):ZL200920081763.8,ZL201020114137.7,ZL201020114148.5.



型號(hào):CWES-UET025

最大工作壓力:1.0MPa

處理流量:25m3/h

控制:PLC控制

1特點(diǎn)

電解是在外部電流作用下一個(gè)電子導(dǎo)體(特種金屬制成的電極)和一個(gè)離子導(dǎo)體(水中的電解質(zhì))之間發(fā)生的系列化學(xué)反應(yīng)。

電解制造了一個(gè)氧化反應(yīng)和還原反應(yīng)分別進(jìn)行的環(huán)境。

電解過程可以控制和測(cè)量,從而可以精確預(yù)知處理后水的水質(zhì)。

減少化學(xué)藥劑使用,降低藥劑成本,降低污染。

環(huán)境友好。

處理效果不隨被處理水的條件或組成而發(fā)生變化。

CWES-UET優(yōu)勢(shì)


減少停車時(shí)間
安全性和環(huán)境利益

防治水垢
顯著節(jié)約用水

控制細(xì)菌包括軍團(tuán)菌和藻類滋生 
不會(huì)有員工暴露于危險(xiǎn)化學(xué)品嘗

防止腐蝕 
很少有化學(xué)藥劑排放到環(huán)境中

不會(huì)在水中形成污染物 
沒有藥劑或者包裝拋棄問題 





節(jié)省主要費(fèi)用
無故障的服務(wù)和操作

減少排污費(fèi) 
維護(hù)和服務(wù)都由當(dāng)?shù)毓緛硗瓿?/span>

大大減少藥劑費(fèi)用或者其它供應(yīng)費(fèi)用 
完全自動(dòng)操作系統(tǒng)

維護(hù)量最小化的簡潔系統(tǒng) 
受約束的許可和規(guī)章制度最少

微電腦監(jiān)控和自動(dòng)排污控制 
無需藥劑添加系統(tǒng)(泵、閥門等)

動(dòng)力和雇員培訓(xùn)費(fèi)用最小化 
無需軟化水

3材質(zhì)與防腐

反應(yīng)室殼體:涂襯環(huán)氧樹脂的碳鋼

管道:內(nèi)外涂襯環(huán)氧防腐的碳鋼管道

閥門:鑄鐵、PVC

控制單元:黃銅、不銹鋼、PVC

密封圈:橡膠EPDM

反應(yīng)室殼體和管道均進(jìn)行了嚴(yán)格的防腐處理。設(shè)備表面處理過程為:焊縫打磨整齊、噴砂至金屬本色、吹干燥壓縮空氣、去油,涂襯環(huán)氧樹脂粉,送入溫度高達(dá)200℃的高溫烤箱烘烤40分鐘,最后包裝。環(huán)氧厚度達(dá)130微米,漆層堅(jiān)固、耐磨損,確保設(shè)備使用壽命


CWES-UET025系統(tǒng)包含:淺層介質(zhì)過濾器1臺(tái);電解預(yù)結(jié)垢單元1個(gè)。

在本項(xiàng)目中,采用循環(huán)水旁流處理方式。如下圖所示。

安裝圖一

 image.png

 

安裝圖二

 image.png

循環(huán)水電解系統(tǒng)安裝在冷卻塔旁的循環(huán)水回水處,依靠回水壓力進(jìn)行過濾和自動(dòng)反沖洗,屬于最節(jié)能的一種旁路安裝方式。這種方式對(duì)回水壓力有要求,一般要求大于0.2 MPa。

4.CWES電解殺菌除垢的工作機(jī)理

CWES電解殺菌除垢系統(tǒng)要求循環(huán)水流過CWES反應(yīng)室,以便拿掉適當(dāng)?shù)拟}鎂離子礦物質(zhì)和殺死細(xì)菌。在反應(yīng)室中發(fā)生的這種實(shí)際的化學(xué)反應(yīng),不同于任何一種其他的機(jī)械式和電磁式的處理方式。

陰極化學(xué)反應(yīng)

通過電解,水中的礦物質(zhì)沉淀出來并被去除,這就是CWES的工作原理。反應(yīng)室中維持的工作電流大概為直流725安培。結(jié)果是,在陰極(反應(yīng)室內(nèi)壁)附近形成高濃度的氫氧根,這種升高的pH環(huán)境(pH大約為13),讓易結(jié)垢的礦物質(zhì)預(yù)先結(jié)垢,并從水中析出。實(shí)際上,陰極附近局部的高氫氧根濃度形成的化學(xué)環(huán)境,和用石灰處理形成的冷石灰軟化環(huán)境類似,主要用來去除水中的鈣、鎂離子。

image.png

電流也將一部分的氯離子轉(zhuǎn)化成游離氯,同時(shí)產(chǎn)生微量臭氧、氧自由基、氫氧根自由基和雙氧水。這一系列產(chǎn)物提供了殺生效應(yīng),結(jié)合安培電流及局部高的和低的(陽極)pH區(qū)域,維持了CWES之外的一個(gè)事實(shí)上的消毒環(huán)境。

陽極化學(xué)反應(yīng)


反應(yīng)室本身是一個(gè)碳鋼制造的圓柱狀的容器。固定在碳鋼蓋子上有兩個(gè)陽極和一個(gè)電動(dòng)刮刀。陽極柱直徑大約為
1英寸,直伸到容器底部。電極用特殊鈦鎳氧化物制成,以便耐受局部低pH環(huán)境?;@式塑料刮刀每次清洗時(shí)用來擦掉內(nèi)壁預(yù)沉淀出來的礦物質(zhì)。 

 

image.png



3殺菌原理

由上可知,陰極和陽極的化學(xué)反應(yīng),配合特別的流量設(shè)計(jì),反復(fù)地將細(xì)菌暴露于破壞性的環(huán)境中,每次流經(jīng)反應(yīng)室就會(huì)暴露在極高和極低的pH、電流、和其它幾種氧化消毒環(huán)境之中。

CWES環(huán)境:

CWES以旁流的方式安裝,也就是說,大約5%循環(huán)取出來經(jīng)過CWES處理后再回到系統(tǒng)中去。旁流量設(shè)計(jì)時(shí)基于系統(tǒng)中所有的循環(huán)水量每天經(jīng)過CWES系統(tǒng)大約1-2次。因此,相對(duì)于保有水量2000方,每個(gè)來自空氣中或者水中懸浮物里的細(xì)菌,都會(huì)在24小時(shí)之內(nèi)經(jīng)過苛刻的CWES環(huán)境大約2-3,從而達(dá)到抑制、殺滅細(xì)菌的功效。

pH值作用:

微生物對(duì)多種突然的環(huán)境變化很敏感。其中一個(gè)尤其敏感的參數(shù)是pH值(水的酸度或者堿度變化)。實(shí)際上,水的pH值哪怕簡單地改變很少幾個(gè)單位,就能夠事實(shí)上消除某些微生物的生長。如前所述,陰極附近會(huì)形成高濃度的氫氧根,從而在反應(yīng)室內(nèi)壁附近造成極高的堿性環(huán)境,pH值達(dá)到13。相反,在陽極附近,一直維持著低pH的酸性環(huán)境。

由于寄生在冷卻水懸浮物上面的細(xì)菌適應(yīng)了輕微弱堿性環(huán)境,pH值在8.59.0之間。這個(gè)pH值是使用CWES處理冷卻循環(huán)水時(shí)控制的范圍。于是,因?yàn)槔鋮s水進(jìn)入和離開反應(yīng)室,不斷地循環(huán)就會(huì)反復(fù)將細(xì)菌置于低pH值區(qū)和高pH值區(qū)。結(jié)果就是細(xì)菌每次通過反應(yīng)室時(shí)都經(jīng)歷了多次變化的pH值環(huán)境。

電流作用:

CWES在反應(yīng)室中維持大約20~35安培15~30伏特的直流電流。因此,細(xì)菌每次經(jīng)過反應(yīng)室時(shí)都會(huì)暴露在該電流中,會(huì)電解而死。

產(chǎn)生氯氣、臭氧和氧自由基:

由于陰極發(fā)生的化學(xué)反應(yīng),流經(jīng)反應(yīng)室的氯離子中約10%~30%的氯離子轉(zhuǎn)化成游離氯,因此循環(huán)水中余氯維持一個(gè)穩(wěn)定的數(shù)量,約0.1~0.5ppm。這個(gè)余氯,就像向水中添加漂白粉一樣,通過氧化作用殺死細(xì)菌。同時(shí),在陰極還產(chǎn)生了臭氧和氧自由基,這兩個(gè)氧化性物質(zhì),和氯類似,具有殺生劑的作用。

4工作過程

電解除垢器工作時(shí),進(jìn)水閥門、出水閥門打開,原水從進(jìn)水閥門進(jìn)入,在反應(yīng)室內(nèi)進(jìn)行電解殺菌電化學(xué)作用,讓易結(jié)垢的礦物質(zhì)預(yù)先結(jié)垢,并從水中析出,并附著在反應(yīng)室內(nèi)壁(陰極)上。因反應(yīng)有微量氫氣產(chǎn)生,該水垢為疏松的水垢。


當(dāng)內(nèi)壁上的水垢積累到一定的量需要對(duì)其進(jìn)行清洗,清洗周期和清洗時(shí)間取決于每天要去除的礦物質(zhì)量。


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